EMI真空溅射镀膜的好处是什么

真空技术是结合     机械   、电机、材料、化工和航太等技术发展出来的产业，亦是目前我国与美、日等国极力推动之十大新兴产业之一。真空技术应用范围日趋广泛，运用对象包括光电、半导体和LCD产业等，近年来尤其在光电、IC和LCD等产业之     制造   设备，更是成长迅速。

E     MI   溅射镀膜具有以下特点：

价格低（国内拥有自主知识产权的话）。

真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5～2μm，绝对不影响装配。

真空溅射是彻底的环保制程，绝对环保无     污染   。

欲溅射材料无限制， 任何常温固态导     电金   属及有机材料、绝缘材料皆可使用（例：铜、铬、银、金、不锈钢、铝、     氧化   矽SiO2等）。

被溅射基材几无限制（ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等）。

膜质致密均匀、膜厚容易控制。

附著力强（ASTM3599方法     测试   4B）。

可同时搭配多种不同溅射材料之多层膜。并且，可随客户指定变换镀层次序。

来源：微波     射频   网